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需求描述

（1）离子注入参数与基材表面改性的关联效应问题。离子注入技术的应用中，不同的离子注入能量、流强和剂量对基体薄膜的结合力、细化晶粒度、平整化会产生不同影响。拟通过制备出不同离子注入剂量下的基体薄膜样品，然后使用 AFM、SEM 对这些离子注入基体薄膜样品进行粗糙度、表面形貌等分析，进而得到离子注入实验参数与分析结果的关联效应，最后得出最佳离子注入剂量的建议值，以此找出最佳离子注入时间参数。

（2）高分子基材表面金属有效成膜的工艺问题。由于金属与高分子材料的物理化学性能差异较大，在高分子材料表面沉积结合力较高的金属膜有一定技术难度。拟通过结合多功能离子束薄膜沉积系统的多项离子束功能，进行多次的离子束组合技术应用，综合使用 MEVVA 源金属离子注入、氩离子注入以及离子束溅射沉积（IBSD）、离子束辅助沉积（IBAD）等技术，通过基体表面改性、制备出高分子材料的高效混合界面来提高屏蔽膜的结合。