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新材料产业,制造业

针对球面、平面、非球面及自由曲面等高精密光学元件，主要开展精密磨削、数控研磨抛光等离子体抛光、离子束沉积修正抛光等加工工艺技术研究和先进制造装备设计开发。离子束抛光(IBF, Ion Beam Figuring)是在真空室中将离子（一般为氩离子）束轰击到光学镜面上，通过物理溅射去除材料以实现光学镜面加工的方法。离子束抛光的原理是采用多轴运动控制系统进行不同面形光学元件的超精密加工。

技术能力：

能够对大口径光学元件（平面、球面、非球面等）进行超精密加工，可以加工几乎所有的常规光学材料，如：融石英、BK7、硅、锗、硫化锌、氟化钙、碳化硅、零膨胀玻璃等。设备的极限真空度可以达到8×10-6Pa，加工元件的最大尺寸为Φ600mm，加工元件的面形精度能达到（PV值）λ/100，表面粗糙度能达到0.2nm。