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首届单片集成光电子研讨会在汉召开

发布时间： 2025-11-04

      11月1日，由光谷实验室与华中科技大学光学与电子信息学院联合主办的第一届单片集成光电子器件与系统专题研讨会在武汉召开。来自全国知名高校、顶尖科研院所及龙头企业的200余名专家学者齐聚一堂，共同探讨该领域的最新前沿进展与技术发展趋势。

     多位专家就光电材料、器件架构与系统集成等关键方向作专题报告。北京大学重庆碳基集成电路研究院院长张志勇介绍碳纳米管MOS传感器技术，指出其在气体探测、生物传感及红外探测等领域具有高灵敏、易集成等优势，并已推动建设小试线，助力工程化与产业化。

    中国科学院金属研究所孙东明研究员分享基于纳米碳等低维材料的新原理晶体管、新结构阵列及新功能电路的研究进展，特别是在柔性光电集成与主动散热技术方面的突破，能满足航天、通信等领域对精密温控的需求。

    吉林大学沈亮副院长展示钙钛矿在辐射与光电探测方面的多项创新应用；华中科技大学唐江院长探讨量子点与钙钛矿材料在单片同步/异步集成中的前景；南方科技大学郭传飞教授介绍高线性、高稳定性的离电型电子皮肤材料；湖南大学刘渊教授则聚焦于二维半导体的高密度三维集成技术。

    湖北九峰山实验室董高能工程师系统介绍光电异质异构集成技术趋势与平台能力，北京航空航天大学韩勋副教授则汇报钙钛矿在仿生视觉传感与神经形态图像处理方面的系列突破。

     会议期间，光谷实验室主任助理施维轩详细介绍实验室“墨子光枢”科创品牌与“单片集成感知验证平台”，该平台致力于为科研人员提供从制备、测试到封装的全流程服务，目前已支持数十所高校与研究机构完成数千次验证。

     圆桌对话环节，孙东明、沈亮、郭传飞、刘渊、董高能等嘉宾围绕技术路线、硬件算法协同、团队合作与产业化等议题展开“头脑风暴”，为与会者带来多元化的学术视角与合作灵感。

    与会专家还参观了光谷实验室的专业科研平台与成果展区，近距离感受其从技术研发到产业孵化的全链条服务体系。

    当前，我国集成电路产业正处于发展的关键时期，单片集成技术作为实现芯片性能突破的重要路径，亟须跨学科、跨领域的协同创新。本次研讨会汇聚了来自高校、科研机构与企业的顶尖专家，不仅搭建了高质量的交流平台，也为推动中国光电子技术的自主创新与产业落地注入了新的动能。

    光谷实验室相关负责人表示，作为开放共享的新型科研平台，未来将继续以国家战略需求为导向，深化产学研用融合，携手各界共同推动中国光电子产业迈向高质量发展。