您所在的位置: 首页 协作站综合资讯 详情

集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）培训会召开

发布时间： 2025-03-08

3月7日，贝谢(上海)技术有限公司在公司会议室召开集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）培训会。

会后，公司人力资源部介绍公司新机构设置方案，公司决定将原有的中央实验室下属的知识产权管理职能分离出来，设置独立的知识产权部门‌，综合管理企业的专利、集成电路布图设计、版权等事务，与企业的技术研发部门、市场运营部门、法务部门平级平行设置。这种模式下，适当增加知识产权专业人员数量，专业能力配备齐全，能够独立开展全类型的知识产权业务，对企业知识产权保护战略实施落地比较有利。

来源：贝谢技术上海公司