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一种减小三极管反向放大倍数的泡发射磷扩散工艺方法

发布时间: 2022-11-11
来源: 试点城市(园区)
截止日期:2023-12-31

价格 双方协商

地区: 甘肃省 天水市 秦州区

需求方: 天水***公司

行业领域

电子信息技术,新型电子元器件

需求背景

三极管,也称双极型晶体管、晶体三极管,是一种电流控制电流的半导体器件,起作用是把微弱信号放大成幅度值较大的电信号,也用作无触点开关。晶体三极管,是半导体基本元器件之一,具有电流放大作用,是电子电路的核心元器件。三极管是在一块半导体基片上制作两个相距很近的PN结,两个PN结把整块半导体分成三部分,中间部分是基区,两侧 部分是发射区和集电区,排列方式有PNP和NPN两种。三极管的性能会影响到TTL数字集成电路的性能。有些电路对三极管的反向放大倍数要求很小,小于0 .3,一般工艺很难满足。

需解决的主要技术难题

目前双极集成电路生产中扩散多分为两步;第一步为预沉积,第二步为再分布。扩散又分为硼扩散和磷扩散。硼扩散可以形成三极管的基区,磷扩散可以形成三极管的集电区和发射区。在这几道扩散工艺中,发射区磷扩散显的格外重要,因为它不仅控制着晶体管的放大倍数β,而且对晶体管的反向电流放大倍数也有很大的影响。

对于泡发射极磷扩散工艺虽然也有两步,但其实在第一步已经将预沉积和再分布全部完成,虽然也有发射区再扩散,但由于温度太低,对扩散后的杂质分布和结深几乎没影响。这样第一步不仅将扩散杂质总量和结深一次扩散到位,同时在硅片表面形成了一层磷硅玻璃。这种工艺方式虽然适用于大部分双极数字集成电路的生产,做出的三极管反向放大倍数βf(0 .4~0 .6)。但对于一些像5493这样要求晶体管β较小、反向放大倍数βf<0 .3的集成电路,这种方法做出的芯片就很难完全满足电路参数。

期望实现的主要技术目标

1、将扩散温度提高到了1150±20℃,通源时间减少到2~3分钟。

2、利用铝板散热快的特点,将发射区磷扩散完后的硅片在铝板上得到了快速降温。

3、在集成电路生产中,可以做出浅结、反向电流放大系数较小即反向漏电流较小的晶体管,满足了电路要求,提高电路性能。

处理进度

  1. 提交需求
    2022-11-11 15:05:26
  2. 确认需求
    2022-11-12 15:25:26
  3. 需求服务
  4. 需求签约
  5. 需求完成