多光源可调节的面曝光3D打印关键技术及应用
成果类型:: 发明专利
发布时间: 2025-06-23 16:37:15
本项目针对3D打印技术中存在的“打不大”、“打不好”、“不灵活”的问题,提出了多光源静态组合框架,发明了光源组合模式自动获取方法,提出了基于全局优化的光照均匀化模型,设计了模型自适应打印控制方案,实现了大尺寸、高质量、可调节的面曝光3D打印技术。通过结合上述技术,搭建了多光源组合的DLP大尺寸面曝光3D打印装置,有效解决了DLP面曝光3D打印尺寸受限问题,提高了打印成功率和材料利用率。
技术亮点:多光源静态组合框架和光照均匀化模型的应用,使得打印尺寸和打印质量得到显著提升。实时检测与原位修复策略的设计,有效减少了打印过程中的随机缺陷。应用领域:适用于建筑模型、装置原型、艺术品等多个领域,能够满足大型零件和模型的生产需求。市场前景:随着3D打印技术的普及和应用领域的不断拓展,大尺寸、高质量的面曝光3D打印技术市场需求将持续增长。本项目在打印尺寸和打印质量上的优势,使其在市场上具有显著的竞争力。
本项目在建筑模型,大型装备、装置、仪器原型,无人机风洞试验模型及其他航模等领域具有广泛的应用前景。随着3D打印技术的不断发展和应用领域的不断拓展,大尺寸、高质量的面曝光3D打印技术将成为未来3D打印市场的重要发展方向。本项目的成功实施将推动相关行业的技术进步和产业升级。
项目团队由北京工业大学教授组成,有合作需求可联系山河湾谷公司。
经济效益:通过提高打印尺寸和打印质量,降低打印成本,本项目将为企业带来显著的经济效益。
社会效益:项目的成功实施将推动3D打印技术的发展,促进相关行业的技术进步和产业升级,为社会创造更多的就业机会和经济效益。
创新效益:本项目在3D打印技术上的创新,将推动整个行业的技术进步和发展,提升我国在全球3D打印领域的竞争力。
项目已具备产业化条件,可通过技术转让、合作开发等方式进行转化。可已与北京工业大学技术转移中心或山河湾谷公司联系,咨询项目的技术合作与推广工作。

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