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一种用于半导体晶片化学机械抛光的磁流变弹性抛光垫、制备方法及其应用

成果类型： 发明专利
发布时间： 2025-05-20 10:45:43
科技成果产业化落地方案
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成果发布人 2025-05-20 10:45:43 查看详情