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一种抛光液、磷化铟抛光装置及方法
发布时间: 2025-11-03
基本信息
合作方式：
技术转让
成果类型：
发明专利
行业领域：
高端装备制造产业,智能制造装备产业
成果介绍
本发明属于抛光技术领域，更具体地，涉及一种抛光液、磷化铟抛光装置及方法，其中抛光液包括基液以及混合于基液中的金属粉末、磨料；金属粉末与磨料的质量比为1:2～1:4，金属粉末的金属性强于铟。本发明中一方面通过金属接触腐蚀反应将磷化铟表面氧化，从而降低磷化铟表面的硬度，其避免了使用酸性物质或碱性物质生成有毒气体危害工作人员安全或污染环境，同时还避免了抛光液对抛光装置的腐蚀。
成果亮点
绿色接触腐蚀创新机制
通过金属粉末（Zn/Al混合粉末）与InP晶片发生接触腐蚀，在去离子水基液中即可将表面氧化为软质氧化层，彻底替代传统强酸/强碱腐蚀工艺，实现有毒气体零排放，废水处理成本降低90%。
精准氧化层控制技术
金属粉末与磨料1:2~1:4的配比优化，实现氧化层厚度稳定控制在8-15nm范围内，材料去除率提升至1.2μm/h的同时表面粗糙度Ra≤0.4nm。
设备友好型配方体系
中性基液（pH 6.5-7.5）完全消除对不锈钢抛光设备的腐蚀风险，设备寿命延长3倍，且金属粉末可磁选回收（回收率≥95%）。
宽工艺窗口适应性
在0.1-0.3MPa压力、30-60r/min转速范围内均保持稳定抛光效果，适用于4-8英寸InP晶片全规格加工，产品良率提升至98.5%。
团队介绍
广东工业大学 路家斌; 骆应荣; 熊强; 阎秋生; 王新汉; 刘文涛
成果资料
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