多光源可调节的面曝光3D打印关键技术及应用

本项目针对3D打印技术中存在的“打不大”、“打不好”、“不灵活”的问题，提出了多光源静态组合框架，发明了光源组合模式自动获取方法，提出了基于全局优化的光照均匀化模型，设计了模型自适应打印控制方案，实现了大尺寸、高质量、可调节的面曝光3D打印技术。通过结合上述技术，搭建了多光源组合的DLP大尺寸面曝光3D打印装置，有效解决了DLP面曝光3D打印尺寸受限问题，提高了打印成功率和材料利用率。

技术亮点：多光源静态组合框架和光照均匀化模型的应用，使得打印尺寸和打印质量得到显著提升。实时检测与原位修复策略的设计，有效减少了打印过程中的随机缺陷。应用领域：适用于建筑模型、装置原型、艺术品等多个领域，能够满足大型零件和模型的生产需求。市场前景：随着3D打印技术的普及和应用领域的不断拓展，大尺寸、高质量的面曝光3D打印技术市场需求将持续增长。本项目在打印尺寸和打印质量上的优势，使其在市场上具有显著的竞争力。

项目团队由北京工业大学教授组成，有合作需求可联系山河湾谷公司。