科创中国
光刻胶色素
发布时间: 2025-05-30
基本信息
合作方式：
技术转让
成果类型：
发明专利
行业领域：
化工
成果介绍
光刻胶的组成成分光刻胶产品是电子化工材料中技术壁垒最高的材料之一，研发难度极大。纯度要求高、工艺复杂：由于光刻胶用于微米级甚至纳米级图形加工，光刻胶产品需要严格控制质量。光刻胶及其专用化学品的化学结构特殊，品质要求高，微粒子及金属离子含量极低，生产工艺复杂，其研发和生产具有较高的技术门槛。
成果亮点
光刻胶全球市场规模近 90 亿美元，中国本土供应占比仅有 10%左右，发展空间巨大 。随着电子信息产业发展的突飞猛进，光刻胶市场总需求不断提升。2019 年全球光刻胶市场规模预计近 90 亿美元，自 2010 年至今 CAGR 约5.4%，预计未来 3 年仍以年均 5%的速度增长，预计至 2022 年全球光刻胶市场规模将超过100 亿美元。
团队介绍
学院建设有材料生物学与动态化学教育部前沿科学中心、工科化学国家级实验教学示范中心等国家级平台基地 6 个，结构可控先进功能材料及其制备教育部重点实验室、结构可控分子工程教育部国际合作联合实验室、上海市功能性材料化学重点实验室等省部级平台基地 7 个，其中结构可控先进功能材料及其制备教育部重点实验室在教育部组织的2013、2019 年评估中连续两次获评“优秀”。此外，学科还拥有 1 个高水平国际合作与交流平台“费林加诺贝尔奖科学家联合研究中心”，汇聚了以诺贝尔化学奖获得者等一批国际学术大师为代表的世界顶级智力资源。
成果资料
成果综合评价报告
评价单位：- (-) 评价时间：2025-06-23
焦斌
中国化学会
产学研专委会常务副主任
综合评价
发展建议：
标准升级：建立EUV色素分子数据库与QSAR模型7
产能突破：建设千吨级智能化生产线10
技术延伸：开发High-NA光刻适配色素体系37
风险预警：
技术风险：High-NA光学系统可能需重构分子结构10
市场风险：海外巨头可能实施专利封锁
供应链风险：氖气供应紧张可能影响原料获取7
技术路线图：
短期（1-2年）：完成3nm节点工艺验证
中期（3-5年）：开发自组装光刻色素材料7
长期（5+年）：实现计算辅助的分子逆向设计310
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