基于环状寡聚物开发KrF/ArF光刻胶成膜树脂

本申请原创性的提出利用柱芳烃和环糊精等环状寡聚物，和光致产酸剂分子主客体结合制备超分子光刻胶成膜树脂，以调控光酸的扩散，属于国际首创的光酸扩散控制策略。可用于KrF、ArF光刻，以解决化学增幅光刻胶中面临的光酸扩散这一痛点难点问题，具有国际领先水平。

制备tBoc-柱芳烃和tBoc-环糊精等环状寡聚物，利用主客体结合策略构建超分子光刻胶成膜树脂，探究光刻胶曝光过程中酸扩散和解像度之间的调控机制，通过优化筛选环状寡聚物成膜树脂结构、配方工艺和光刻工艺，开发适用于KrF、ArF光源的高感度和高分辨率光刻胶，并进一步将其拓展应用至EUV光刻胶。

学校科研工作发展迅速，现有4个全国重点实验室，1个国家工程技术研究中心，1个国家工程研究中心，1个国家工程实验室，17个省、部级重点实验室，15个省、部级工程技术研究中心，2个社科类省部级基地，1个国际合作联合实验室。