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高性能电磁屏蔽、隐身光学元件的设计、制备与应用
发布时间: 2024-12-02
基本信息
合作方式：
技术转让
成果类型：
发明专利
行业领域：
新材料技术
成果介绍
常见的光学窗口材料一般是绝缘体，其电磁屏蔽能力往往比较差。为了提高光学窗口的电磁屏蔽性能，本成果通过设计、制备特殊薄膜结构，在保证其高光学透过率的前提下，实现电磁屏蔽性能的巨大提升。
成果亮点
（1）薄膜沉积工艺简单、光学元件透过率高、光谱范围宽；
（2）薄膜层缺陷少、抗激光损伤阈值高。
团队介绍
洪瑞金，博士，上海理工大学光电信息与计算机工程学院教授，博士生导师，主要研究方向为光电功能薄膜与器件，纳米光子学等。2006 年 3 月毕业于中国科学院上海光学精密机械研究所，获工学博士学位。2006.3-2007.3 在加拿大 Simon Fraser University物理系从事博士后研究工作。2007.3-2009.8 期间先后在上海、深圳公司从事光电器件研究与开发工作。2009.9-2012.9 在江西理工大学冶金与化学工程学院工作。
2018.6-2018.12 在日本神户大学工学部访学研究。2012.10-至今在上海理工大学光电信息与计算机工程学院从事科研与教学工作。目前正在主持国家自然科学基金面上项目 2项，上海市科委专项 1 项，军工科研项目多项。主持完成国家 863 计划课题 1 项、上海市自然科学基金 1 项、上海市科委专项 2 项，军工科研项目 10 余项。近五年以第一作者或通讯作者发表 SCI 研究论文 30 余篇，已授权发明专利 6 件。
成果资料
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