一种双功能柱对称大尺寸高均匀性线型磁控靶镀膜设备

本发明涉及一种双功能柱对称大尺寸高均匀性线型磁控靶镀膜设备.该设备在圆形真空腔中心安放用于夹持凸形柱面镜的转动轴,在外围安装用于安放凹形柱面镜的转动圆环,在转动圆环和转动轴之间安放竖直摆放的线型磁控溅射靶枪,靶枪前安放有可以旋转的气动挡板.通过改变靶枪朝向和调整靶枪在真空腔内的径向位置,可使靶枪分别指向转动圆环和转动轴,并对安装在转动圆环上的凹形柱面镜或者是安装在转动轴上的凸形柱面镜进行镀制.通过改变靶枪前的气动挡板的开关以及转动圆环和转动轴的转动速率完成对薄膜制备工艺的控制.

大尺寸高均匀性线型靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

同济大学王占山，精密光学工程技术研究所创始人，同济大学先进技术研究院院长，同济大学高等研究院执行副院长，同济大学学术委员会秘书长，先进微结构材料教育部重点实验室主任黄秋实黄秋实，同济大学物理科学与工程学院长聘教授、国家高层次青年人才，上海市青年拔尖，上海市青年科技启明星，获中国仪器仪表学会技术发明奖一等奖