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CMP纳米抛光液生产技术转让
发布时间: 2023-10-13
基本信息
合作方式：
技术转让
成果类型：
发明专利
行业领域：
新材料技术
成果介绍
CMP纳米抛光液( chemical mechanical polishing化学机械抛光，简称CMP)是平坦化精密加工工艺中超细固体研磨材料和辅助化学添加剂的混合物，CMP抛光液一般由提供研磨作用的超细溶胶粒子如纳米级SiO2﹑Al2O3粒子等和其它辅助作用的助剂组成。它广泛用于各类集成电路、半导体硅晶圆、蓝宝石、LED﹑金属加工行业及其他领域的抛光过程，用来辅助抛光、保护硅片等材料免受划伤，因此在国产芯片的发展历程中是离不开它的。 按产品类型将市场分为三类如下： 纳米SiO2抛光液﹑纳米氧化铝抛光液﹑其他类型纳米抛光液（氧化铈﹑氧化锆等）。目前SiO2抛光液在销量上占有优势地位，未来随着技术的发展和下游客户对抛光液细分要求的提升，抛光液无论在品种还是数量上将会有更大的发展潜力。
成果亮点
CMP技术通过化学腐蚀和机械研磨综合发挥作用，它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来打磨较硬的抛光工件。施加一定压力和抛光浆料，使抛光工件相对于抛光垫作往复运动，借助于纳米粒子的研磨作用和氧化剂的腐蚀作用的结合，在被抛光的工件表面形成较高质量的光洁表面。从而避免了单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面不平整、抛光一致性差和单纯机械抛光造成的表面损伤等缺点。
团队介绍
宁波益加科创服务有限公司是一家提供园区运营、项目申报、活动承办为主的初创型服务公司。公司成立于2020年6月15日，注册资金为100万，办公场地为宁波市鄞州区学士路655号科技信息孵化园B栋裙楼一楼。
成果资料
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