科创中国
一种金属掩模板制备用光罩
发布时间: 2023-09-25
基本信息
合作方式：
技术服务
成果类型：
实用新型专利
行业领域：
新材料技术
成果介绍
一种金属掩模板制备用光罩，涉及掩模板制备领域，包括本体，所述本体上包括有效区和设置在所述有效区外侧的过渡区；所述过渡区的内侧形成有连接所述有效区和所述过渡区的内蚀刻线，所述过渡区的外侧形成有外蚀刻线；其中，所述内蚀刻线的宽度大于所述外蚀刻线的宽度。本实用新型中的光罩生成在金属箔材上的内蚀刻线的宽度大于外蚀刻线的宽度，金属箔材上靠近有效区的内蚀刻线会先被蚀刻，使金属箔材有效区不易被过渡区划伤。
成果亮点
1.本实用新型中的光罩具有有效区和过渡区，用于生产金属掩模板时可在带光刻胶的金属箔材上也形成与光罩上相同的有效区和过渡区。另外，金属箔材的尺寸大于要制得的金属掩模板的尺寸，所以金属箔材上还具有位于过渡区外侧的无效区，即金属箔材上的过渡区位于有效区和无效区之间，蚀刻掉位于中间的过渡区即可分离金属箔材的有效区和无效区，有效区即要制得的金属掩模板。
2.光罩上的过渡区具有内蚀刻线和外蚀刻线，所以也可在带光刻胶的金属箔材上形成外蚀刻线和内蚀刻线，内蚀刻线与金属箔材有效区连接，外蚀刻线与金属箔材无效区连接。将内蚀刻线和外蚀刻线蚀刻掉即可使过渡区脱离金属箔材。其中，内蚀刻线的宽度大于外蚀刻线的宽度，所以内蚀刻线被蚀刻后，内蚀刻线距离金属箔材有效区的距离更大，在蚀刻液的流动下过渡区不易剐蹭到有效区。
3.由于内蚀刻线的宽度大于外蚀刻线的宽度，内蚀刻线与蚀刻液离子反应的概率更大，所以内蚀刻线优先被蚀刻，过渡区内蚀刻线一侧与有效区分离时，外蚀刻线一侧仍与无效区连接，在无效区的干涉下过渡区不会接触到有效区，提高了制得的金属掩模板的良率。
团队介绍
寰采星科技（宁波）有限公司成立于2019年3月21日，是国内首家AMOLED半导体显示蒸镀用精细金属掩膜版（FMM）产业化及工艺技术综合解决方案供应商。公司创始团队来自于全球半导体显示行业领军级运营团队和全球领先的金属掩膜版核心技术团队。
成果资料
下载app