成果介绍
真空电弧离子镀具有以下优点:
1.蒸发源不产生熔池、绕镀性好:可任意设置于镀膜室适当位置,提高沉积速率使膜层厚度均匀,并可简化基片转动机构;
2.入射粒子能量高:膜的致密度高,强度和耐磨性好。工件和膜界面有原子扩散,膜的附着力高;
3.离化率高:可达80%以上,镀膜速率高,有利于提高膜基附着性和膜层的性能4.一弧多用:电弧既是蒸发源和离化源,又是加热源和离子溅射清洗的离子源。
成果亮点
此技术可以制备多种硬质涂层,如TiN、TiC、ZrN、CrN、TiCN、 (Ti、A) N、AlOs,DLC膜以及多层复合膜等。研发的离子镀仿金装饰镀层经久耐用,可用于日用饰品、建筑五金等领域。离子镀TiN系列耐磨涂层及其复合涂层具有高硬度、良好的结合强度和耐磨性,可用于高速钢、硬质合金刀具、模具,显著提高其使用寿命,提高切削效率和加工工件表面质量。研发的MCrAIY等抗腐蚀、抗高温氧化涂层和其他功能涂层,应用于航空发动机和燃汽轮机叶片。
团队介绍
中国科学院金属研究所
成果资料