用于监控微刻蚀风险的衬底结构及监控方法

本发明提供了一种用于监控微刻蚀风险的衬底结构及监控方法。利用衬底结构中第一材料层相对于第二材料层具有较低的电阻率，从而在产生有微刻蚀缺陷而提前暴露出第一材料层时，即能够使得衬底结构的电阻提前出现突变而被及时的检测到，如此，即可以及时有效的检测出当前刻蚀工艺中是否存在微刻蚀现象而导致微刻蚀缺陷，并且还可以进一步的判断出对应采用的刻蚀设备是否存在异常。

主权利要求: 1.一种微刻蚀风险的监控方法，其特征在于，包括：提供衬底结构，所述衬底结构包括由下至上堆叠设置的第一材料层和第二材料层，所述第二材料层的电阻率高于所述第一材料层的电阻率；刻蚀所述第二材料层至至少第一时间点，以在所述第二材料层中形成凹槽；其中，所述第一时间点为所述第二材料层中对应在凹槽内的部分被完全刻蚀去除时所对应的时间点；或者，所述第一时间点早于所述第二材料层中对应在凹槽内的部分被完全刻蚀去除时所对应的时间点；以及，判断在第一时间点之前是否有检测到衬底结构的电阻发生突变，当在第一时间点之前检测到了电阻发生突变，则判断出所述凹槽的底角位置出现微沟槽且暴露出所述第一材料层。