磁控溅射离子镀装备及工艺
发布时间: 2022-06-01
来源: 科创项目库
基本信息
课题组着眼于技术壁垒突破难度较大的第三代闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术,在科技部“863”计划项目和陕西省“13115”科技专项的支持下,已在国内独家率先掌握了具有自主知识产权的多靶闭合场非平衡磁控溅射设备制造技术,该设备具有处理工件尺寸大,数量多,效率高,镀层制备灵活,成本低等优点。