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一种黑硅材料的制备方法

发布时间: 2022-05-23

基本信息

合作方式: 技术转让
成果类型: 发明专利,新技术
行业领域:
新材料产业,制造业
成果介绍

 本发明提供了一种黑硅材料的制备方法,具体步骤如下:步骤1,对P型CZ单晶硅片进行切片、清洗、退火、抛光预处理;步骤2,对预处理后的单晶硅片去除损伤层和氧化层。步骤3,对去除损伤层和氧化层的单晶硅片制绒,在抛光硅片表面形成金字塔结构阵列;步骤4,将表面有金字塔结构的单晶硅片中的的硅片置于H2O2、HF和AgNO3的混合溶液刻蚀;步骤5,步骤4将反应后的硅片,置于一定的浓度HNO3溶液中,超声清洗,以去除Ag颗粒,最终得到黑硅材料。

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