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一种含N-苯基马来酰亚胺光敏丙烯酸树脂的合成及其在负性光致抗蚀剂中的应用

发布时间: 2022-05-16

基本信息

合作方式： 技术转让
成果类型： 发明专利
行业领域：
其他
成果介绍

一种含N-苯基马来酰亚胺光敏丙烯酸树脂的合成及其在负性光致抗蚀剂中的应用

一种含N-苯基马来酰亚胺光敏丙烯酸树脂的合成及其在负性光致抗蚀剂上的应用,属于紫外光固化技术领域。本发明通过两步法合成一种碱溶性光敏丙烯酸树脂,反应单体N-苯基马来酰亚胺在碱性条件下发生开环反应,增加了聚合物的碱溶性;聚合物中引入碳碳双键,提高了聚合物的光敏性。本发明反应条件易于控制,所用单体结构简单,聚合物性能优异,在负性光致抗蚀剂的应用中性能良好。所得聚合物结构如下所示,其中R1-R4独立的为H或CH3,R5为C1-C4的烷基,R6为苄基、环己基、异冰片基。>。

  • 1.一种含N-苯基马来酰亚胺光敏丙烯酸树脂的合成方法，其特征在于制备步骤如下： (1)将一部分溶剂于反应器中加热至75-90℃回流； (2)将反应单体、热引发剂和其余溶剂混合均匀后匀速滴加至反应器中，滴加完后保温反应6-10个小时； (3)第一步反应完成后升温至100-130℃，将甲基丙烯酸缩水甘油酯、阻聚剂、催化剂、适量溶剂混合均匀后匀速滴加到反应器中，保温反应6-10个小时。
  • 2.根据权利要求1所述的一种含N-苯基马来酰亚胺光敏丙烯酸树脂的合成方法，其特征在于：步骤(1)所用的溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯。
  • 3.根据权利要求1所述的一种含N-苯基马来酰亚胺光敏丙烯酸树脂的合成方法，其特征在于：步骤(2)所用单体为甲基丙烯酸(MAA)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)、N-苯基马来酰亚胺(N-PMI)、甲基丙烯酸环己基脂(CHMA)，热引发剂为偶氮二异丁腈，溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯。
  • 4.根据权利要求1所述的一种含N-苯基马来酰亚胺光敏丙烯酸树脂的合成方法，其特征在于：步骤(3)中所用的溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯，阻聚剂为四甲氧基酚，催化剂为三苯基膦。
  • 5.根据权利要求1所述的一种含N-苯基马来酰亚胺光敏丙烯酸树脂的合成方法，其特征在于：步骤(2)(甲基)丙烯酸摩尔含量为单体摩尔总量的25％-45％，N-苯基马来酰亚胺摩尔含量为单体摩尔总量的***％-50％，引发剂摩尔含量为单体总摩尔量的1-3％。
  • 6.根据权利要求1所述的一种含N-苯基马来酰亚胺光敏丙烯酸树脂的合成方法，其特征在于：步骤(3)阻聚剂量为甲基丙烯酸缩水甘油酯质量的1％，催化剂量为甲基丙烯酸缩水甘油酯质量的2％。
  • 7.根据权利要求1所述的一种含N-苯基马来酰亚胺光敏丙烯酸树脂的合成方法，其特征在于：步骤(2)和步骤(3)的体系固含为30-45％。
  • 8.根据权利要求1-7所述的含N-苯基马来酰亚胺光敏丙烯酸树脂，其用途在于：可以作为负性光致抗蚀剂的成膜树脂，光致抗蚀剂配方如下：
  • 9.根据权利要求8所述的负性光致抗蚀剂的显影条件： (a)将权利8中所述的光致抗蚀剂涂覆在铜板上，70-120℃条件下预烘一段时间； (b)将菲林片覆盖在烘好的样品上，在90-140mj/cm2条件下曝光； (c)将曝光好的样品置于Na2CO3溶液中显影，得到光致抗蚀剂图案。
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