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一种In2S3纳米薄片阵列材料的制备方法

发布时间: 2022-05-10

基本信息

合作方式: 技术转让
成果类型: 发明专利,新技术
行业领域:
生物产业,制造业
成果介绍

一种In2S3纳米薄片阵列材料的制备方法,将硫源溶于去离子水,搅拌制成溶液,然后再加入锌盐和铟盐搅拌,配制成混合溶液;在聚四氟乙烯釜中放入衬底,然后将混合溶液转移到放有衬底的聚四氟乙烯釜中,再放入烘箱,升温至180~210℃,保温***~4小时,反应完毕后反应釜自然冷却至室温;取出衬底,用乙醇和去离子水反复冲洗后,放入烘箱中烘干,则得到In2S3纳米薄片阵列材料。本发明通过水热法以及用水作溶剂,方法简单、环保,且易于操作;不需要使用惰性气氛保护,条件简单;得到的纳米材料有着较大的比表面积、可见光响应和光电化学性能,且形貌均一。

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