需求发布 成果发布 科创案例库 揭榜挂帅
技术路演 会议展览 科创联合体 项目申报
前沿动态 科技政策 院士开讲 青托工程
科技服务团 学术资源
试点城市(园区) 双创活动周
协作站点 学会服务
问题库 项目库 开源库
English
您所在的位置: 成果库 90nm光刻机照明系统

90nm光刻机照明系统

发布时间: 2021-10-28

来源: 科技服务团

基本信息

合作方式： 技术咨询
成果类型： 发明专利
行业领域：
新材料产业,制造业
成果介绍

2017年4月，上海光机所自主技术研发的国内首套面向90nm节点光刻机的NA0.75  ArF照明系统顺利通过了整机单位的验收测试并实现交付，实现了极限分辨率优于85nm的优异结果。 光刻照明系统是以非成像光学为主的复杂光学系统，其中包含深紫外激光光束变换、整形与控制技术，用以解决深紫外激光的调控难题；照明光场均匀化与校正技术，采用微透镜阵列、均匀性校正板，解决高均匀性光场匀化难题；深紫外激光脉冲能量探测技术，解决单脉冲高精度能量探测难题。
这些技术将成为未来深紫外光学系统和仪器中不可或缺的关键技术。90nm光刻照明系统的研制成功，标志着上海光机所在超精密复杂非成像光学技术领域已跻身国际先进行列。

成果亮点
团队介绍
成果资料