科创中国

项目内容：

    该技术主要内容为使磁场内的铁研磨粉末获得一种“弹性刷”的特性，并将制品表面进行抛光。该过程中脉冲磁场有利于材料结构的行程。

    该技术主要用于：该纳米起伏的行程；镀膜和薄膜加工前的表面抛光；焊接前的表面处理；轧制金属除垢和去污；接触表面抛光从而提高其耐腐蚀性、耐磨损性和机械性能；通过扩散和粘附的方法进行表面改性。

项目优势：

高精度平整表面磁研磨抛光技术MA08技术指标：

零部件的直径 – 20…200 mm

零部件厚度 – < 5 mm

抛光时间 – 2…15 min

输入功率 – 1,5 kW

长×宽×高 – 700×700×500 mm

重量  – 80 kg

该MA08模型主要用于光学、电子和激光技术零部件超薄抛光处理。其特点及优势:

1.该抛光技术是由工具材料在正常最小压力下的剪应力实现，从而对将对表面的损害降到最低。

2.由于磁弹塑性的存在，可使用磁场对很多种单晶材料进行抛光处理.

3.抛光表面的光洁度Ra < 2 nm.

4.该处理流程非常简单，其设备成本低廉。这种设备比同类产品价格低3-5倍，同时处理能力并不逊色。

技术数据：

处理后的粗糙度，µm： 

抛光          0.2 – 0.0008        清洁               2.0 – 0.2

金属尺寸（边缘）, µm   3 - 300

输出, m/min：

抛光          0.1 – 0.5         清洁          1– 300

技术优势：

1、形成结构缺陷最小的表面涂层

2、保持表面的功能数据（耐腐蚀、耐磨和机械破坏等）

3、环境友好型

4、经济效益好