研磨抛光液 _科创中国

该项目主要内容为：第一部分采用SiO2溶胶凝胶法制备一种超细纳米二氧化硅粒子研磨剂。第二部分采用合成的超细纳米二氧化硅粒子研磨剂作为基体材料，选择合适的表面活性剂、稳定剂、氧化剂及螯合剂，制备一种性能稳定、悬浮性能好、不变稠、不析出晶体、颗粒细而均匀、不会有划痕的纳米研磨抛光液。技术特点：本项目研究的创新点在于工艺技术的创新：采用分级控制技术，制备出不同粒径的超细纳米二氧化硅粒子研磨剂，通过控制pH值、加料工艺等控制产品粒子的形貌及粒径均一度，从而决定最终抛光液产品的性能。应用范围：本项目开发的研磨抛光液可用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。例如，光通讯领域，光学镜头、光学玻璃、石英件，磁头、硬盘基片，硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料，金属类材件，陶瓷镜面等。