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磁控溅射镀膜是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离

子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，

离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基

底表面，被轰击的固体称为溅射靶材，是用溅射法沉积薄膜的原材料。钼金

属由于具有的低热膨胀系数，高化学与热稳定性以及良好导电性，因此钼靶

材是在制造导电薄膜的理想材料。钼靶材最常见有钼条靶、宽幅钼靶及钼旋

转管靶等。

高纯度是对钼靶材的一个基本特性要求，尤其是氧含量，钼靶材的纯度

越高，溅射薄膜的性能越好，一般钼靶材的纯度至少为 99.95%；钼靶材的致

密度也是较为重要指标之一，致密度低的靶材内部会有其他突然释放，造成

大尺寸靶材颗粒或微粒飞溅，降低薄膜的品质，致密度至少在 98%以上；另

外，具有细小且均匀晶粒组织的靶材溅射速率明显比粗晶粒快，并且镀膜后

的金属膜厚度分布更加均匀。

钼溅射靶材通过严格控制原料品质、热处理条件、后续加工方法来控制

靶材产品的纯度、致密度、晶粒度以及结晶取向等。因此为制备粒度分布均

匀、晶粒细小的高端钼溅射靶材，掌握晶粒度与组织均匀性控制技术之外，

最为重要的前提条件就是控制原材料的品质。

原料钼粉的纯度、尺寸粒度、形貌及分布直接影响着钼和钼合金制品最

终的质量与性能。传统钼粉制备由于粒度粗大、烧结活性低和烧结温度高等

问题，制备出的钼材料粒度达数 10μm，制约了钼制品性能的进一步提升。

现有的钼粉制备研究主要集中在减小钼粉的颗粒尺寸上，但氧含量与粒度分

布也直接影响着粉末的工艺性能。

本项目旨在高端显示器溅射靶材用超细低氧钼粉制备技术攻关，紧紧围

绕我省 24 条重点产业链，属于新型显示产业链中关键配套环节，为高端显示

器用钼靶材提供性能优异的原材料，通过解决目前超细低氧钼粉制备卡脖子

技术难题，从而实现高端显示器制备国产化。因此针对钼靶材产品的使用特

点以及对钼粉基础原材料的各项性能指标要求，本项目拟定主要研究内容如

下：

1、超细钼粉在制备高性能钼靶材实现细化晶粒和均匀性的机理研究；

2、制备超细钼粉用原材料的技术条件确定；

3、超细规格钼粉制备工艺开发以及粒度可控技术研究；

4、超细钼粉深度脱氧技术研究；

5、结合项目产业化，实现超细低氧钼粉低成本批量生产工艺固化。

项目考核指标：

1、钼粉纯度≥99.95%，其中氧含量≤800ppm，其余杂质元素符合 YS/T

1374-2020 标准；

2、费氏粒度 0.5~1.0μm，松装密度≤1.0g/cm3，孔隙率≥90%；

3、比表面积≥3.0m2/g；

4、激光粒度分布呈单峰正态分布，可见粉末颗粒大小均匀；5、制备符合上述技术指标的样品钼粉 50kg；

6、开发产业化技术及自主化装备，实现年产 50 吨超细低氧钼粉材料

产业化。