需求解析

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技术研发指南

剥离液一种low-k膜用的抗蚀剂剥离液,其包含选自有机酸及有机溶剂中的至少一种,及氟化氢(HF)。剥离液属高纯湿电子化学品的一种。是用于去除金属电镀或蚀刻加工完成后的光刻胶和残留物质时防止对下面的衬底层造成损坏。在半导体行业中主要用于去除多余的光刻胶。剥离液是显示面板制造中用量最大的湿电子化学品之一

对纯度要求最高的,对生产的工艺流程、生产设备、生产的环境控制、包装技术都有非常高的要求,具备较高的技术门槛。

剥离液主要成分为有机胺化合物、极性有机溶剂以及水,但现有的水性剥离液大都存在腐蚀金属层、光刻胶残留、使用寿命短、剥离效果差等问题。

需一种能防止腐蚀金属层、清洗效果好,剥离性能好,寿命长的剥离液。

提供一种光阻剥离液,有效降低剥离液处理后的基板表面残留,提高液晶面板的良率。

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