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涂胶显影装备调度平台软件开发

发布时间: 2022-11-26
来源: 试点城市(园区)
截止日期:2023-11-26

价格 双方协商

地区: 辽宁省 沈阳市 浑南区

需求方: 沈阳***公司

行业领域

高技术服务业,高端装备制造产业,智能制造装备产业

需求背景

光刻是芯片制造中最复杂、最关键的工艺步骤之一,主要包括涂胶、曝光和显影三个步骤。也就是用涂胶机将光刻胶涂在晶片表面,然后用掩膜版曝光机曝光,再用显影液显影。光刻工艺中的涂胶显影设备是集成电路制造过程中不可或缺的关键加工设备。它主要配合光刻机(芯片生产线中最大、最精密、最难、最贵的设备)进行作业,通过机器人在各系统间运输加工晶圆,从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影、薄膜硬化的过程。作为光刻机的输入(曝光前光刻胶涂覆)和输出(曝光后图形显影),涂胶/显影机的性能不仅直接影响精细曝光图形的形成,而且其显影过程的图形质量和缺陷控制对后续工艺(如刻蚀、离子注入等)中的图形转移结果有着深远的影响。).

需解决的主要技术难题

涂胶显影设备是在光刻工序中和光刻机配套使用的机器,主要起到涂胶、烘烤和显影的作用。涂胶显影设备是集成电路生产过程中不可获缺的设备,能够直接影响到光刻工序中曝光图案的形成。涂胶显影设备主要应用在晶圆生产中的前道EUV光刻中,以及后道的封测和LED制造中,在晶圆生产中起到重要作用。目前该项目核心的问题是解决机台实时性问题,

期望实现的主要技术目标

需解决的难题:①实时系统和windows系统数据交互和功能分配:涉及到两部分交互数据模型的定义,基于不同控制系统硬件的通信实现,设备运行时两部分的交互时序逻辑; ②开发清晰可控的调度优化算法:调度算法程序与平台框架接口明确;可以进行离线模拟,具有异常处理恢复机制; ③现有机台程序和控制逻辑移植:最大程度兼容公司现有平台的逻辑层和驱动层的程序。 ④良好的扩展性:适应设备不同机械架构,兼容不同的执行机构;具有良好的接口,适应二次开发需求。 ⑤高速总线系统的应用:用高速实时以太网取代传统串口通信电机控制方式,具有良好的驱动程序接口,工艺单元内的电机通过EtherCAT 接口统一控制。 ⑥其他方面:便于二次开发、完善的版本控制方法等。

处理进度

  1. 提交需求
    2022-11-26 01:42:38
  2. 确认需求
    2022-11-26 15:57:30
  3. 需求服务
  4. 需求签约
  5. 需求完成