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一种双功能柱对称大尺寸高均匀性线型磁控靶镀膜设备

发布时间: 2023-11-17

来源: 科技服务团

基本信息

合作方式： 技术转让
成果类型： 发明专利
行业领域：
高新技术改造传统产业,先进制造技术
成果介绍
本发明涉及一种双功能柱对称大尺寸高均匀性线型磁控靶镀膜设备.该设备在圆形真空腔中心安放用于夹持凸形柱面镜的转动轴,在外围安装用于安放凹形柱面镜的转动圆环,在转动圆环和转动轴之间安放竖直摆放的线型磁控溅射靶枪,靶枪前安放有可以旋转的气动挡板.通过改变靶枪朝向和调整靶枪在真空腔内的径向位置,可使靶枪分别指向转动圆环和转动轴,并对安装在转动圆环上的凹形柱面镜或者是安装在转动轴上的凸形柱面镜进行镀制.通过改变靶枪前的气动挡板的开关以及转动圆环和转动轴的转动速率完成对薄膜制备工艺的控制.
成果亮点
仪器可安装双功能柱对称2个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层，可通入冷却水对靶材降温，其中一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材，另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材靶材尺寸要求：金属靶：陶瓷靶：可安装大尺寸。，仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶 溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）。
团队介绍
同济大学王占山教授团队，长期从事：高性能薄膜、精密成像、X射线光学研究。获得荣誉：2019年国家技术发明奖二等奖排名第一、2016年国家技术发明二等奖排名第二、国家自然科学基金委员会创新团队负责人、国家杰出青年基金获得者。
成果资料