芯片刻蚀机用高性能 Y2O3粉体及其涂层制备技术

发布时间: 2023-04-24

来源: 试点城市（园区）

截止日期:2025-04-30

价格双方协商

地区：湖南省衡阳市蒸湘区

需求方：南华**

行业领域

新材料技术

需求背景

为全面落实“三高四新”战略定位和使命任务，按照省委省政府有关决策部署，进一步加强前沿性、引领性和关键共性技术攻关，提升科技创新支撑引领作用。关于为社会发展领域重点研发计划项目申报做贡献。

需解决的主要技术难题

研究高松装密度、高纯度球形 Y2O3 粉体制备工艺，研究喷雾造粒工艺及研制专用装备，研究高致密度Y2O3 涂层优化设计与制备工艺，开展高性能 Y2O3 粉末与喷涂技术之间的工艺适配性研究。

期望实现的主要技术目标

1、突破刻蚀机工艺腔内表面耐大功率等离子体侵蚀的关键技术，产品指标参数要求：Y2O3 粉体：纯度≥99.95%，松装密度≥1.75g/cm3，粉体粒度 D50<35μm；

2、Y2O3涂层，孔隙率 3~5%，硬度 400~450HV，结合强度 15~25MPa，表面粗糙度 2~6μm。

3、高能 CF4/O2等离子轰击试验涂层刻蚀速率为≤6nm/min。

4、在至少 1 个工程化项目中实现应用示范。

需求解析

解析单位：湖南省衡阳市 解析时间：2023-05-10

段斌

衡阳市科学技术协会

部长

综合评价

此需求描述已足够清晰，此项需求需通过与相关专业院校及科研院所的专家建立联系，针对现有技术的不足共同研发出该芯片刻蚀机用高性能 Y2O3粉体及其涂层制备技术制造技术的优化方式，建议与现有装备制造行业中的前沿企业所共同商讨此方案即可较快解决此需求。

处理进度

科创中国